第634章 升级优化EDA工具，难如登天？（1/2）

「好了，各位！」

「江南教授，想必大家都认识了！」

「从今天开始，我们【碳基芯片】专项研发小组正式成立！」

「我们将以江南教授的理论为基，全力以赴，争取在最短的时间内突破所有芯片难点，把高性能的碳基芯片给研发出来！」

接下来！

就是一番官腔式的动员大会。

嗯！

都是些老生常谈的东西。

无非是走走流程，打打鸡血，让众人努力云云，这没什么好说的。

不过……

周青山身为云科院的负责人，本身也是最顶尖的科学家，教授和院士，论实力还在高卫东之上，显然不会仅是以上水平。

要知道他可并不只是管理人员，而是在纳米材料与结构、单分子物理与化学、扫描隧道显微学，尤其是在纳米结构和单分子高分辨表征与控制领域取得巨大成就的人。

也许有些大大没听明白。

简单来说。

周青山是国内最顶尖的物理学家，也是化学家，身居两道，牛蛙的一批。

这水货说完了，肯定要上干货。

只见……

刚才还一脸随和的周青山，忽然面容一肃，炯炯目光横扫四方，深呼口气，十分郑重道：「不过丑话也说在前头，虽然碳基芯片的前景很客观，但困难也是存在的。」

「大家都不是外行人，我也不多说废话，众所周知，自主研发芯片的三大难点，一为材料，二为技术，三为设备。」

「在此之前……」

「我们的材料，技术和设备都相对落后。」

「首先是材料，高纯度的硅依赖于进口，不仅贵，而且被国外卡了脖子。」

「当然，这个难点已经被解决了！」

「毕竟我们不再使用高纯硅，而是使用江南教授制造的完美石墨烯。」

「其中第三个难点设备，也不需要我多说，无非就是光刻机的问题。」

「过去我国一直没有光刻机，尤其是高端EUV光刻机，一直被国外封锁限制。」

「虽然前几年我们已经研发出了普通的DUV光刻机，最高也能制造出7nm芯片，但要经过多次曝光，使得成本飙升，良品率也难以控制，目前没法实现生产。」

「可如果放弃7nm芯片，而专攻10nm或者14nm，那在性能上就远不如国外。」

「当然，这个难点也勉强被解决了！」

「设备不行，那就性能来凑！」

「有了完美石墨烯这种新材料，其本身性能是高纯硅的千百倍。」

「即便没有高端光刻机，而只使用普通的DUV光刻机，或者其它技术。」

「比如用冰刻代替光刻，只要能制造出芯片，那性能必然不会弱于国外的芯片。」

「所以说……」

「以上都不再是难点。」

「但这两点难点解决了，不代表碳基芯片立马可以制造出来，毕竟咱们还存在一个中间环节，那就是技术难点。」

「虽然第一个技术难点，将完美石墨烯扭结θ度，用来制造晶体管和逻辑门也被江南教授解决了，但后续还有很多难点。」

「如电路结构、EDA工具、制造进程、条件保障等方面的复杂性……」

「还有通用逻辑门、接口电路、SOC、处理器、存储器、放大器、ADC、DAC、电源、接口等方便仍需大家去一一攻克。」

「尤其是EDA工具，目前国外的大多已被封锁，而国产的性能又相差甚远。」

「仅凭国内的EDA工具，想要设计出一流，乃至完美的芯片根本不可能。」

「所以还需要计算机所的几位研究员注意，一定要在现有基础上再进行优化，优化，再优化，争取达到国际水准……」

嗯！

周青山说了很多。

要说前边是打鸡血，那现在就是摆困难，毕竟人要自信，却也不能盲目自信。

能看到自己的优势，更要看到自己的劣势，才能不断改进而成功。

且他在说话的同时。

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