第664章 爱玩的女孩孕气都不会太差（1/2）

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看着田旭东同学在足球场上纵横驰骋大杀四方，捧走了大力神杯成为了新一代球王，叶华功德圆满回到了台积电设置在氹仔岛的合作实验室搞研发。

前两年刚完成了浸入式光刻技术，现在叶华又要带领台积的供应商ASML光刻机研发部门进入EUV（极深紫外）时代。

ASML为叶华旗下的高通、华技、台积电、东方电子等半导体生产商提供光刻机及相关服务，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，比如叶华旗下的高通、华技、海力士（Hynix）、台积电（TSMC）、中芯国际（SMIC）等，同时也在各地成立了合作实验室。

ASML的产品线分为PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列，其中PAS系列光源为高压汞灯光源，现已停产；AT系列属于老型号，多数已经停产。市场上的主力机种是XT系列以及NXT系列，为ArF和KrF雷射光源，XT系列是成熟的机型，分为干式和沉浸式两种，而NXT系列则是现在主推的高端机型，全部为沉浸式。目前已经商用的最先进机型是Twinscan NXT 1950i，属于沉浸式光刻机，用来生产关键尺度低于38纳米的集成电路。

ASML正在加紧研制基于极深紫外（EUV）光源的新型光刻机，型号定为NXE系列。如果量产成功，将成为划时代的产品，有望将关键尺寸缩小至10nm以下，并且可以显著提高集成电路质量。

众所周知，光刻是集成电路芯片制造的内核工艺。光刻机的成本占到了整个芯片生产的三分之一以上。而在光刻机的市场上，白婷在1977年就帮叶华注册的ASML公司，而如今占到了全球光刻机80%以上的市场。

1960年代集成电路技术诞生后，最早的光刻工艺还不算什么尖端科技。叶华早期收购的仙童和IBM这些第一代芯片公司都是自己设计光刻工具，只有GCA，K&S和Kasper等少数公司开发一些独立的光刻设备。进入1970年代，光刻机成为不少米国公司竞争的焦点。先是Kasper推出接触式光刻设备，但是很快，接触式被接近式机台所淘汰，因为掩模和光刻胶的接触会很容易带来污染。接下来Perkin Elmer（P&E）推出投影式光刻系统，迅速占领市场。

1978年，仙童的光刻部门剥离出去，并入了ASML公司，很快推出步进式光刻机，光刻机的分辨率达到了1微米。但是由于性能问题，暂时没能撼动Perkin Elmer投影式光刻机的市场领先度，直到进入80年代后，ASML公司又推出更成熟的步进式光刻机NSR-1010G，投影式光刻机的市场才开始萎缩。整个80年代上半期，尼康，GCA也开始进入光刻机全球市场。

也是在这个时候，ASML总公司搬迁到了荷兰埃因霍温，推出TWINSCAN系统和割命性的双段（dual-stage）技术，在对一块晶圆曝光的同时测量对准另外一块晶圆，从而大大提升了系统的生产效率和精确率。并投入全自动化生产和飞利浦展开竞争，飞利浦想像不到5年，叶华的ASML公司会发展这么迅猛，把他们挤得只有1%的市场份额。1983年4月1日，ASML公司蛇吞象般收购了电子巨人荷兰飞利浦公司。

在仙童公司还未改名成外星人公司签，光刻部门最初只有31名员工。收购了飞利浦的ASML公司第一年，就推出了浸入式光刻技术。当然，这套系统并不是凭空而来，仙童关于光刻系统的研发工作早在1960年代就开始了，事实上仙童最初的注资中有180万美元就是用尚未研发完成的浸入式光刻技术的。

去年，公司发展到1000多员工，搬入位于Veldhoven新建的机器人厂房，这个地方距离飞利浦研发实验室只有几公里远，公司推出改进了对准系统的PAS2500步进型，奠定了随后多项技术创新的基础。也在那一年，ASML同外星人和山叶的摄像头部门创建了稳定的合作关系。

今年ASML的国际化拓展越发成功。他们跟随飞利浦在宝岛的合资流片工厂台积电开拓了亚洲业务，在米国的员工数增加到840人，创建了十五个办公室。为高通、台积电等公司送来急需的上万台光刻机订单。

从此ASML完全自立，他们的客户数遍布全球，订单排到了三年后，成为主导国际光刻机市场的一哥。叶华旗下多个高科技公司崛起，把其他半导体公司逼迫得无路可退，原先主导光刻机市场的美国光刻机厂商GCA，Ultratech和P&E光刻部先后退出或者缩小规模。日本的尼康和佳能也不能幸免，已经三个月没有接到订单，尼康承受不了巨额投资却不见回报决定退出，佳能也宣布庞大的成本削减计划，工人们开始放长假。为了挽救公司，尼康和佳能的管理层找到了台积电的董事会成员林秋霞，通过她说服其他董事决策为他们公司再提供一笔资金和技术。

叶华的团队没有辜负林秋霞的信任，上个月他们各出资6千万美元收购尼康30%的股份和佳能40%股份，并转让了PAS5500的技术，这一具有业界领先的生产效率和精度的光刻机。PAS5500也为尼康佳能带来几家关键的客户，包括台积电，高通和中芯国际，这些客户是他们后来实现赢利的关键。现在ASML他们扩建了位于Veldhoven的DeRun厂房，这里将为成为公司新总部所在。叶华通过台积电的实验室为新总部输送最新的光刻技术。

TWINSCAN AT:1150i量产后没多久，首个193nm的浸入式系统TWINSCAN XT:1900i发布。这些创新的系统让客户可以生产更小尺寸的芯片，其特点是可以让光经过透镜组和晶圆之间的一层水实现投影。浸入式光刻技术全部从叶华的特斯拉数据库一次输出。在那之前，全球的半导体工业都为超越193nm光刻绞尽脑汁，但是先后失败。只有叶华提出的这个工程师相对简单的办法最后成功。从那以后，浸入式光刻一直做到如今的7nm。正是凭借浸入式光刻的突破，让ASML一跃成为全球光刻机市场的大霸王。

接下来光刻机的竞争进入EUV（极深紫外）时代。目前全球最先进的EUV光刻工艺使用的是13nm光源，能够满足7nm线宽制程工艺的要求。全球能够达到这种水平的光刻机制造商暂时只有一家——叶华独家持有的ASML。

为了市场垄断，叶华手下肯定不止有ASML一个公司，后面还跟着N多个马甲，例如马甲一——硅谷SVG集团拥有关键的157nm光学技术，也因此得以长存米国市场；例如马甲二——领先的半导体设计和制造优化解决方案提供商BRION，打开整体（Holistic）光刻战略；例如首次发售支持实时测试纠正的YieldStar（250D）系统，在整体光刻上更进一步。

6月初ASML首次发售概念性的EUV光刻系统NXW:3100，客户是华技的的2012实验室，从而打开光刻系统的新时代。EUV光刻采用更短波长的光来制造更小特征尺寸，更快也更强大的芯片。

同时叶青文在加州圣地亚哥成立光刻光源厂Cymer，和ASML合作，加快EUV系统研发，7月份发售第二代EUV系统NXE:3300，第一批面向制造的EUV系统开始批量发售给客户。在这个时候，进一步扩展整体光刻产品线，并购宝岛的另外一个小马甲HMI公司，一家领先的电子束计量公司，并在一个后成功推出集成两家公司技术的ePfm5系统。在荷兰电子束光刻公司Mapper破产后，ASML收购了其IP资产，还延揽了其研发人员。ASML继续改进浸入式光刻技术，先后推出NXT1970Ci和NXT1980Di，这两款设备被叶华的半导体工业广泛部署。

纵观叶华输出的高科技和ASML的发展故事，很多关门弟子可以看到，坚持分散投资，对新技术趋势的准确判断与把握，持续不断的研发投入，充足的资本保障是ASML能在短短几年时间里从小到大，一跃成为全球光刻机行业龙头的关键要素。和ASML同时起步，甚至更早的IBM的光刻机却没有发展起来。和叶华的事业群对比，所有做产业研究都开始惊恐了。

叶华无视欧美苏的强势，不趁着市场急缺的时候多开枝散叶广撒网，那不就是耍性格的逗逼？只要能盈利的地方，叶华都见缝插针。

.......

叶华走出实验室，来到了贺潘妮打理的美高梅酒店，一个30多岁穿着黑色小西装戴着墨镜的卷发美女冲着叶华打招呼道：「叶先生，哦，是叶医神您好！」

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