483 其实，你的研究方向是对的（2/2）

「我听阿姨说黄叔叔晚上有应酬，明哥刚才打电话所晚上要加班回不来，嫂子晚上夜班，阿姨在厨房炒菜。」张文华赶忙解释道。

「那和你顾北闲聊，我和莺莺去厨房帮忙。」黄鹂转身就往外走，看到黄莺不想动，瞪了她一眼硬把她拉了出去。

现在客厅就剩顾北和张文华两人，顾北随意寒暄就问道：「193纳米光源研究的怎么样？」

听顾北问这，张文华一脸苦笑：「几乎没什么进展，193nm波长步进扫描曝光机，光学光刻分辨率到达70nm的「极限」，据我们了解，日本尼康利用自己在干式微影技术的优势，继续开发157纳米的F2雷射光源，这也是我们研究方向。」

怎么是干式？

顾北突然记得记得网上曾经说过，不是ASML公司的光刻机是什么「浸润式」的吗？这两者有啥区别？

「啥叫干式微影？」顾北问道。

张文华没想到顾北竟然对这种很专业的术语感兴趣，想了想才解释道：「所谓干式，是指就是指光刻机投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片上的光刻胶之间用的是空气做介质，顾名思义干式。」

「那为啥不用液体呢？」

顾北突然问道。

「你说用液体？」张文华神情很诧异。

「为什么不行？」没想到顾北的神情很认真：「不是要降低光的波长，光源出发是根本方法，水会改变光的折射率——这个高中生都知道吧？在透镜和硅片之间加一层水，原有的193nm雷射经过折射，不就降低了吗？」这段话还是顾北重生前在网上看到的，所谓的浸润式原理。

「顾北，没你想到这么简单！」张文华口气中带着沮丧：「就在干式微影老攻克不下来的时候，我也想到了用液体做介质，但实验了一段时间最后决定放弃。」

「为什么？」

「因为这里面有几乎无法克服的苦难，如果用水，浸入环境很容易引起缺陷，包括气泡和污染，还有抗蚀剂与流体或面漆的兼容性问题，抗蚀剂的折射指数如何能大于1.8等等一系列问题都无法克服。」

听不懂......

「刘所长怎么想的？」顾北皱眉问道。

「他开始笑我有些异想天开，我据理力争最后他同意我带几个人独自试验，不过到最后还是他说的对，我们又集中力量开始攻关干式微影，白白浪费了几个月时间。」

张文华说道最后有些不好意思。

「其实，你的研究方向是对的。」

顾北突然说出这句话，让张文华吃了一惊：「你说我的方向是正确？」

顾北点点头：「我问你，从理论上讲用液体做介质到底有没可能攻克这个难题？」

「理论上说是可行，但是实际遇到的问题很多，除了我刚才说的，还有折射指数大于1.65的流体满足粘度、吸收和流体循环要求…….」张文华也不管顾北听的懂听不懂，又开始解释起来。

「好了，不说这个……」顾北打断他的话，「明天我就找你刘所长，研发方向放到液体做介质浸润式微影技术！」

顾北的语气不容置疑。

虽然他听不懂张文华说的那些艰涩专业术语，但是他记得很清楚，网上就说ASML公司就靠这个所谓的「浸润式」技术，打败了尼康IBM等公司所谓干式微影技术，成了光刻机的龙头。

这实际上是一种研发路线选择，一旦错了，满盘皆输！尼康IBM就是活生生的例子！